GB/T 16879-1997 《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 16879-1997
- 标准中文名称：掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
- 标准英文名称：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
国家标准《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位中国科学院微电子中心。本标准等同采用其他国际标准：SEMI P21:1992。采标中文名称:。
- 标准号
- GB/T 16879-1997
- 发布日期
- 1997-06-20
- 实施日期
- 1998-03-01
- 标准类别
- 基础
- 中国标准分类号
- L97
- 国际标准分类号
- 31.020
31 电子学 31.020 电子元器件综合 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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