GB/T 17866-1999 《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则》-国家标准
目录
标准基础信息
- 标准号：GB/T 17866-1999
- 标准中文名称：掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
- 标准英文名称：Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
国家标准《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位中国科学院微电子中心。本标准等同采用其他国际标准：SEMI P23:1993。采标中文名称:。
- 标准号
- GB/T 17866-1999
- 发布日期
- 1999-09-13
- 实施日期
- 2000-06-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- L56
- 国际标准分类号
- 31.200
31 电子学 31.200 集成电路、微电子学 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
- 点击查看标准全文。