GB/T 19444-2004 《硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 19444-2004
- 标准中文名称：硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法
- 标准英文名称：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
国家标准《硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位洛阳单晶硅有限责任公司。
- 标准号
- GB/T 19444-2004
- 发布日期
- 2004-02-05
- 实施日期
- 2004-07-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H26
- 国际标准分类号
- 29.040
29 电气工程 29.040 绝缘流体 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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