GB/T 19922-2005 《硅片局部平整度非接触式标准测试方法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 19922-2005
- 标准中文名称：硅片局部平整度非接触式标准测试方法
- 标准英文名称：Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
国家标准《硅片局部平整度非接触式标准测试方法》由339-1（工业和信息化部（电子））归口，主管部门为工业和信息化部（电子）。主要起草单位洛阳单晶硅有限责任公司。
- 标准号
- GB/T 19922-2005
- 发布日期
- 2005-09-19
- 实施日期
- 2006-04-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H17
- 国际标准分类号
- 77.040.01
77 冶金 77.040 金属材料试验 77.040.01 金属材料试验综合 - 归口单位
- 工业和信息化部（电子）
- 执行单位
- 工业和信息化部（电子）
- 主管部门
- 工业和信息化部（电子）
标准全文
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