GB/T 24580-2009 《重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 24580-2009
- 标准中文名称：重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
- 标准英文名称：Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
国家标准《重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。主要起草人马农农 、何友琴 、丁丽 。本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF 1528-1104。采标中文名称:用二次离子质谱法测量重搀杂N型硅衬底中的硼污染的方法。
- 标准号
- GB/T 24580-2009
- 发布日期
- 2009-10-30
- 实施日期
- 2010-06-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H80
- 国际标准分类号
- 29.045
29 电气工程 29.045 半导体材料 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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