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  • GB/T 15909-2009 《电子工业用气体 硅烷(SiH4)》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 15909-2009 电子工业用气体 硅烷(SiH4) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 15909-2009 标准中文名称:电子工业用气体 硅烷(SiH4) 标准英文名称:Gas for electronic industry - Silane 国家标准《电子工业用气体 硅烷(SiH4)》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位浙江大学材化学院半导体材料研究所、西南化工研究设计院。主要起草人余京松 、周鹏云 。全部代替GB/T 15909-1995被GB/T 15909-2017GB/T 15909-2017全 …


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  • GB/T 14146-2009 《硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 14146-2009 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 14146-2009 标准中文名称:硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法 标准英文名称:Silicon epitaxial layers-determination of carrier concentration-mercury probe voltages-capacitance method 国家标准《硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位南京国盛电子有限公司、宁波立 …


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  • GB/T 24468-2009 《半导体设备可靠性、可用性和维修性(RAM)的定义和测量规范》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 24468-2009 半导体设备可靠性、可用性和维修性(RAM)的定义和测量规范 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 24468-2009 标准中文名称:半导体设备可靠性、可用性和维修性(RAM)的定义和测量规范 标准英文名称:Specification for definition and measurement of semiconductor equipment reliability, availability, and maintainability(RAM) 国家标准《半导体设备可靠性、可用性和维修性(RAM)的定义和测量规范》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管 …


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  • GB/T 4058-2009 《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 4058-2009 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 4058-2009 标准中文名称:硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 标准英文名称:Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers 国家标准《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位峨嵋半导体材料厂。主要起草人何兰英 、王炎 、张辉坚 、刘阳 。全部代替GB/T 4058-1995 …


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  • GB/T 13388-2009 《硅片参考面结晶学取向X射线测试方法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 13388-2009 标准中文名称:硅片参考面结晶学取向X射线测试方法 标准英文名称:Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques 国家标准《硅片参考面结晶学取向X射线测试方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位有研半导体 …


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  • GB/T 1553-2009 《硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 1553-2009 硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 1553-2009 标准中文名称:硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法 标准英文名称:Test methods for minority carrier lifetime in bulk germanium and silicon by measurement of photoconduetivity decay 国家标准《硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分 …


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  • GB/T 16943-2009 《电子工业用气体 氦》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 16943-2009 电子工业用气体 氦 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 16943-2009 标准中文名称:电子工业用气体 氦 标准英文名称:Gas for electronic industry - Helium 国家标准《电子工业用气体 氦》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC1(全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位西南油气田分公司成都天然气化工总厂、北京氦普北分气体工业有限公司、西南化工研究设计院。主要起草人刘泽军 、付永成 、赵俊秀 、周鹏云 。全部代 …


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  • GB/T 16942-2009 《电子工业用气体 氢》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 16942-2009 电子工业用气体 氢 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 16942-2009 标准中文名称:电子工业用气体 氢 标准英文名称:Hydrogen for electronic industry 国家标准《电子工业用气体 氢》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC1(全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位中国计量科学研究院、西南化工研究设计院。主要起草人周泽义 、周鹏云 。全部代替GB/T 16942-1997 收录自国家标准信息平台,认准 …


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  • GB/T 1554-2009 《硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 1554-2009 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 1554-2009 标准中文名称:硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法 标准英文名称:Testing method for crystallographic perfection of silicon by preferential etch techniques 国家标准《硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位峨嵋半导体材料厂。主要起草人何兰英 、王炎 、张辉坚 、刘阳 。全部代替GB/T …


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  • GB/T 14140-2009 《硅片直径测量方法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 14140-2009 硅片直径测量方法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 14140-2009 标准中文名称:硅片直径测量方法 标准英文名称:Test method for measuring diameter of semiconductor wafer 国家标准《硅片直径测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位洛阳单晶硅有限责任公司。主要起草人刘玉芹 、蒋建国 、张静雯 、冯校亮 。全部代替GB/T …


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