GB/T 29844-2013 《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 29844-2013
- 标准中文名称：用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
- 标准英文名称：Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位上海华虹NEC电子有限公司。主要起草人王雷 、伍强 、朱骏 、陈宝钦 。
- 标准号
- GB/T 29844-2013
- 发布日期
- 2013-11-12
- 实施日期
- 2014-04-15
- 标准类别
- 基础
- 中国标准分类号
- L90
- 国际标准分类号
- 31.030
31 电子学 31.030 电子技术专用材料 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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