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  • GB/T 29057-2012 《用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29057-2012 用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29057-2012 标准中文名称:用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程 标准英文名称:Practice for evaluation of polocrystalline silicon rods by float-zone crystal growth and spectroscopy 国家标准《用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为 …


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  • GB/T 29056-2012 《硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29056-2012 标准中文名称:硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法 标准英文名称:Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and …


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  • GB/T 29507-2013 《硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29507-2013 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29507-2013 标准中文名称:硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法 标准英文名称:Test method for measuring flatness, thickness and total thickness variation on silicon wafers by automated non-contact scanning 国家标准《硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国 …


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  • GB/T 29505-2013 《硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29505-2013 标准中文名称:硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法 标准英文名称:Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer 国家标准《硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所。主要起草人孙燕 、李莉 、卢立延 、 …


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  • GB/T 29504-2013 《300mm 硅单晶》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29504-2013 300mm 硅单晶 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29504-2013 标准中文名称:300mm 硅单晶 标准英文名称:300mm monocrystalline silicon 国家标准《300mm 硅单晶》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所、万向硅峰电子股份有限公司、宁波立立电子股份有限公司。主要起草人闫志瑞 、孙燕 、卢立延 、张果虎 、楼春兰等 。 收录自国家标准信息平台,认准 …


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  • GB/T 29848-2013 《光伏组件封装用乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)胶膜》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29848-2013 光伏组件封装用乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)胶膜 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29848-2013 标准中文名称:光伏组件封装用乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)胶膜 标准英文名称:Ethylene-vinyl acetate copolymer(EVA) film for encapsulant solar module 国家标准《光伏组件封装用乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)胶膜》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位杭州福斯特光伏材料股份有限公司、无锡尚德太阳能电力有限公司、常州天合光能有限公 …


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  • GB/T 29508-2013 《300mm 硅单晶切割片和磨削片》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29508-2013 300mm 硅单晶切割片和磨削片 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29508-2013 标准中文名称:300mm 硅单晶切割片和磨削片 标准英文名称:300mm monocrystalline silicon as cut slices and grinded slices 国家标准《300mm 硅单晶切割片和磨削片》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所。主要起草人闫志瑞 、孙燕 、盛方毓 、卢立延 、张果虎 、向磊 。 收 …


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  • GB/T 29506-2013 《300mm 硅单晶抛光片》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29506-2013 300mm 硅单晶抛光片 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29506-2013 标准中文名称:300mm 硅单晶抛光片 标准英文名称:300mm polished monocrystalline silicon wafers 国家标准《300mm 硅单晶抛光片》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所。主要起草人闫志瑞 、孙燕 、盛方毓 、卢立延 、张果虎 、向磊 。 收录自国家标准信息平台,认准 …


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  • GB/T 29844-2013 《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29844-2013 标准中文名称:用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 标准英文名称:Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy 国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位上海华虹NEC电子有限公司。主要起草人王雷 、伍强 、朱骏 、陈宝钦 。 …


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  • GB/T 29852-2013 《光伏电池用硅材料中P、As、Sb施主杂质含量的二次离子质谱测量方法》-国家标准

    calendar 2023-03-05 · 大约 1 分钟 · GB/T 29852-2013 光伏电池用硅材料中P、As、Sb施主杂质含量的二次离子质谱测量方法 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

    收录自国家标准信息平台,认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位,欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号:GB/T 29852-2013 标准中文名称:光伏电池用硅材料中P、As、Sb施主杂质含量的二次离子质谱测量方法 标准英文名称:Test method for measuring Phosphorus, Arsenic and Antimony in silicon materials used for photovoltaic applications by secondary ion mass spectrometry 国家标准《光伏电池用硅材料中P、As、Sb施主杂质含量的二次离子质谱测量 …


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