GB/T 30701-2014 《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》-国家标准
目录
标准基础信息
- 标准号：GB/T 30701-2014
- 标准中文名称：表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
- 标准英文名称：Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
国家标准《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位中国计量科学研究院。主要起草人王海 、宋小平 、王梅玲 、高思田 、冯流星 。本标准等同采用ISO国际标准：ISO 17331:2004。采标中文名称:表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。
- 标准号
- GB/T 30701-2014
- 发布日期
- 2014-03-27
- 实施日期
- 2014-12-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- G04
- 国际标准分类号
- 71.040.40
71 化工技术 71.040 分析化学 71.040.40 化学分析 - 归口单位
- 全国微束分析标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
- 点击查看标准全文。