GB/T 31225-2014 《椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号:GB/T 31225-2014
- 标准中文名称:椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法
- 标准英文名称:Test method for the thickness of silicon oxide on Si substrate by ellipsometer
国家标准《椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法》由TC279(全国纳米技术标准化技术委员会)归口,主管部门为中国科学院。主要起草单位上海交通大学、纳米技术及应用国家工程研究中心。主要起草人金承钰 、李威 、梁齐 、路庆华 、何丹农 、张冰 。
- 标准号
- GB/T 31225-2014
- 发布日期
- 2014-09-30
- 实施日期
- 2015-04-15
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- J04
- 国际标准分类号
- 17.040.01
17 计量学和测量、物理现象 17.040 长度和角度测量 17.040.01 长度和角度测量综合 - 归口单位
- 全国纳米技术标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国纳米技术标准化技术委员会
- 主管部门
- 中国科学院
标准全文
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