GB/T 4058-1995 《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 4058-1995
- 标准中文名称：硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
- 标准英文名称：Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
国家标准《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位峨嵋半导体材料厂。全部代替GB 4058-1983全部代替GB 6622-1986全部代替GB 6623-1986被GB/T 4058-2009GB/T 4058-2009全部代替本标准等效采用ITU国际标准：ASTM F47:1988。采标中文名称:。
- 标准号
- GB/T 4058-1995
- 发布日期
- 1995-04-18
- 实施日期
- 1995-12-01
- 废止日期
- 2010-06-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H26
- 国际标准分类号
- 77.040.30
77 冶金 77.040 金属材料试验 77.040.30 金属材料化学分析 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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