GB/T 39145-2020 《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 39145-2020
- 标准中文名称：硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- 标准英文名称：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
国家标准《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有限公司、厦门科鑫电子有限公司。主要起草人骆红 、潘文宾 、赵而敬 、孙燕 、张海英 、徐新华 、温子瑛 、胡金枝 、李素青 、马林宝 、李俊需 。
- 标准号
- GB/T 39145-2020
- 发布日期
- 2020-10-11
- 实施日期
- 2021-09-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H17
- 国际标准分类号
- 77.040
77 冶金 77.040 金属材料试验 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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