GB/T 40110-2021 《表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 40110-2021
- 标准中文名称：表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- 标准英文名称：Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
国家标准《表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位中国计量科学研究院、华南理工大学。主要起草人王海 、张艾蕊 、王梅玲 、任丹华 、徐昕荣 、范燕 。本标准等同采用ISO国际标准：ISO 14706: 2014。采标中文名称:表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染。
- 标准号
- GB/T 40110-2021
- 发布日期
- 2021-05-21
- 实施日期
- 2021-12-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- G04
- 国际标准分类号
- 71.040.40
71 化工技术 71.040 分析化学 71.040.40 化学分析 - 归口单位
- 全国微束分析标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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