GB/T 40279-2021 《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 40279-2021
- 标准中文名称：硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
- 标准英文名称：Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
国家标准《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位有研半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、优尼康科技有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、翌颖科技（上海）有限公司、开化县检验检测研究院。主要起草人徐继平 、宁永铎 、卢立延 、孙燕 、张海英 、由佰玲 、潘金平 、李扬 、胡晓亮 、张雪囡 、楼春兰 、盘健冰 。
- 标准号
- GB/T 40279-2021
- 发布日期
- 2021-08-20
- 实施日期
- 2022-03-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H21
- 国际标准分类号
- 77.040
77 冶金 77.040 金属材料试验 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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