GB/T 41153-2021 《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 41153-2021
- 标准中文名称：碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
- 标准英文名称：Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司。主要起草人马农农 、何友琴 、陈潇 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、张红岩 。
- 标准号
- GB/T 41153-2021
- 发布日期
- 2021-12-31
- 实施日期
- 2022-07-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H17
- 国际标准分类号
- 77.040
77 冶金 77.040 金属材料试验 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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