GB/T 42789-2023 《硅片表面光泽度的测试方法》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 42789-2023
- 标准中文名称：硅片表面光泽度的测试方法
- 标准英文名称：Test method for gloss of silicon wafer
国家标准《硅片表面光泽度的测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技（衢州）有限公司。主要起草人梁兴勃 、李琴 、张海英 、林松青 、潘金平 、李素青 、张雪囡 、由佰玲 、边永智 、庄智慧 、沈辉辉 、焦二强 、韩云霄 、徐志群 、付明全 、詹玉峰 、王可胜 。GB/T 42789-2023即将实施
- 标准号
- GB/T 42789-2023
- 发布日期
- 2023-08-06
- 实施日期
- 2024-03-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H21
- 国际标准分类号
- 77.040
77 冶金 77.040 金属材料试验 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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