GB/T 43313-2023 《碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法》-国家标准

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标准基础信息

  • 标准号:GB/T 43313-2023
  • 标准中文名称:碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法
  • 标准英文名称:Test method for surface quality and micropipe density of polished silicon carbide wafers—Confocal and differential interferometry optics

国家标准《碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所、山东天岳先进科技股份有限公司、常州臻晶半导体有限公司、湖州东尼半导体科技有限公司、厦门坤锦电子科技有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、广东天域半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、中国科学院半导体研究所、TCL环鑫半导体(天津)有限公司、浙江东尼电子股份有限公司。主要起草人姚康 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、马春喜 、高飞 、张红岩 、陆敏 、郑红军 、房玉龙 、芦伟立 、丁雄杰 、刘薇 、李嘉炜 、晏阳 、钮应喜 、杨玉聪 、黄树福 。GB/T 43313-2023即将实施


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标准号
GB/T 43313-2023
发布日期
2023-11-27
实施日期
2024-06-01
标准类别
方法
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准化管理委员会

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标准全文


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