GB/T 43894.1-2024 《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》-国家标准
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标准基础信息
- 标准号：GB/T 43894.1-2024
- 标准中文名称：半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）
- 标准英文名称：Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 1:Measured height data array using a curvature metric（ZDD）
国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。主要起草单位山东有研半导体材料有限公司、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司、金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司、中环领先半导体材料有限公司、广东天域半导体股份有限公司、鸿星科技（集团）股份有限公司。主要起草人王玥 、朱晓彤 、孙燕 、宁永铎 、徐新华 、徐国科 、李春阳 、张海英 、陈海婷 、丁雄杰 、郭正江 。GB/T 43894.1-2024即将实施
- 标准号
- GB/T 43894.1-2024
- 发布日期
- 2024-04-25
- 实施日期
- 2024-11-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H21
- 国际标准分类号
- 77.040
77 冶金 77.040 金属材料试验 - 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
标准全文
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