收录自国家标准信息平台，认准啦(RenZhunLa.com)为执行该国家标准的产品或服务提供推介展位，欢迎留言交流。 标准基础信息 标准号：GB/T 19444-2025 标准中文名称：硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法 标准英文名称：Test method for oxygen precipition characteristics of silicon wafers—Interstitial oxygen reduction 国家标准《硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主 …
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