T/CASAS 001—2018 碳化硅肖特基势垒二极管通用技术规范-团体标准

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标准详细信息
标准状态  现行
标准编号  T/CASAS 001—2018
中文标题  碳化硅肖特基势垒二极管通用技术规范
英文标题  General Specification for Silicon Carbide Schottky Barrier Diodes
国际标准分类号  31.080.01 半导体器分立件综合
中国标准分类号  
国民经济分类  M732 工程和技术研究和试验发展
发布日期  2018年09月21日
实施日期  2018年09月21日
起草人  许恒宇、李金元、柏松、李诚瞻、刘鹏飞、万彩萍、查祎英、刘奥、周维、赵璐冰、高伟
起草单位  中国科学院微电子研究所、全球能源互联网研究院有限公司、中国电子科技集团公司第五十五研究所、株洲中车时代电气股份有限公司、龙腾半导体有限公司
范围  
主要技术内容  碳化硅(SiC)是目前发展最成熟的宽禁带半导体之一,具有比硅更高的击穿场强、更快的饱和速度和电子漂移速度、更宽的禁带宽度和更高的热导率等特性,可制作性能更加优异的高效、高温、高频、大功率、抗辐射功率器件。不仅能够在直流、交流输电,不间断电源,开关电源,工业控制等传统工业领域广泛应用,而且在太阳能、风能、电动汽车航空航天等领域也具有广阔的应用前景。
随着SiC 肖特基势垒二极管的技术发展、市场逐步开启,Si二极管的标准在某些方面的规定既不能体现SiC二极管优越的特性,也限制了SiC二极管在某些突出特性方面的发展,制定《碳化硅肖特基势垒二极管通用技术规范》,以支撑产品的设计、生产、测量、验收等工作。
是否包含专利信息  
标准文本  不公开

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团体详细信息
团体名称北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
登记证号51110000MJ0118585E发证机关北京市民政局
业务范围技术研发,成果转化;咨询培训 ; 会议会展 ;承办委托; 国际交流
法定代表人/负责人于坤山
依托单位名称
通讯地址北京市海淀区清华东路甲35号五号楼五层邮编 : 100083

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