T/CASAS 006—2020 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范-团体标准

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标准详细信息
标准状态  现行
标准编号  T/CASAS 006—2020
中文标题  碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范
英文标题  The general specification for silicon carbide metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor
国际标准分类号  29.045
中国标准分类号  
国民经济分类  C397 电子器件制造
发布日期  2020年12月28日
实施日期  2021年01月01日
起草人  许恒宇、李金元、刘奥、万彩萍、刘鹏飞、刘国友、孙博韬
起草单位  中国科学院微电子研究所、全球能源互联网研究院有限公司、中国电子科技集团公司第五十五研究所、华大半导体有限公司、株洲中车时代电气股份有限公司、北京世纪金光半导体有限公司
范围  本文件规定了碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(以下简称“晶体管”)的术语、符号、基本额定值和特性、检验要求、测量与试验方法。
主要技术内容  本文件充分借鉴了IEC 60747-8-4 Discrete Semiconductor devices - Part 8-4:Metal-oxide-semiconductor field-effect-transistors for power switching applications的内容,并结合了近几年科研人员在SiC MOSFET功率器件的研发、测试评估以及应用方面的经验总结,对SiC MOSFET的动静态参数、可靠性考核测试方法等进行了详细的规定,但局限于当前科研人员对SiC MOSFET器件的认知,以及该产品生产与应用所处的发展阶段,可能还存在一些不足的地方,后续将根据研究进展不断进行完善和升级。
是否包含专利信息  
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团体详细信息
团体名称北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
登记证号51110000MJ0118585E发证机关北京市民政局
业务范围技术研发,成果转化;咨询培训 ; 会议会展 ;承办委托; 国际交流
法定代表人/负责人于坤山
依托单位名称
通讯地址北京市海淀区清华东路甲35号五号楼五层邮编 : 100083

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