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| 标准详细信息 |
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| 标准状态 | 现行 |
| 标准编号 | T/ICMTIA 5.2—2020 |
| 中文标题 | 集成电路用ArF浸没式光刻胶 |
| 英文标题 | ArF immersion photo resist for integrated circuits |
| 国际标准分类号 | 29.045 |
| 中国标准分类号 | G64 |
| 国民经济分类 | C266 专用化学产品制造 |
| 发布日期 | 2020年12月31日 |
| 实施日期 | 2021年03月01日 |
| 起草人 | 许从应、毛智彪、马潇、顾大公、陈伟琴、李珊珊 |
| 起草单位 | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 范围 | 本文件适用于集成电路用ArF浸没式光刻胶。 |
| 主要技术内容 | 本文件规定了ArF浸没式光刻胶的要求、试验方法、检测标准及包装、运输、存储。 |
| 是否包含专利信息 | 否 |
| 标准文本 | 不公开 |
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| 团体详细信息 |
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| 团体名称 | 中关村集成电路材料产业技术创新联盟 |
| 登记证号 | 51110000MJ0121530Y | 发证机关 | 北京市民政局 |
| 业务范围 | 开展集成电路材料领域的学术研究、学术交流、咨询培训、会议会展、支持成果转化、承办委托、国际交流。 |
| 法定代表人/负责人 | 石瑛 |
| 依托单位名称 | |
| 通讯地址 | 北京市海淀区知春路27号量子芯座大厦15层1712 | 邮编 : 100191 |
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