T/CIE 132—2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方-团体标准

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标准详细信息
标准状态  现行
标准编号  T/CIE 132—2022
中文标题  磁控溅射设备薄膜精度测试方
英文标题  
国际标准分类号  23.160
中国标准分类号  
国民经济分类  I6520 集成电路设计
发布日期  2022年08月10日
实施日期  2022年08月10日
起草人  赵巍胜、张博宇、程厚义、Sylvain EIMER、彭守仲、许涌、Pierre VALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆。
起草单位  北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司。
范围  
主要技术内容  本标准给出了磁控溅射设备薄膜精度评价的术语、测试原理、被测件、测试环境、测试设备、测试程序等。
本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
是否包含专利信息  
标准文本  查看
团体详细信息
团体名称中国电子学会
登记证号社证字第4079号发证机关中华人民共和国民政部
业务范围学术交流 教育普及 书刊编辑 评审鉴定 专业展览 咨询服务
法定代表人/负责人徐晓兰
依托单位名称中华人民共和国工业和信息化部
通讯地址北京市玉渊潭南路普惠南里13号邮编 : 100036

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