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| 标准详细信息 |
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| 标准状态 | 现行 |
| 标准编号 | T/ZOIA 30001—2022 |
| 中文标题 | MEMS高深宽比结构深度测量方法 光谱反射法 |
| 英文标题 | |
| 国际标准分类号 | 31.260 |
| 中国标准分类号 | L 50 |
| 国民经济分类 | C3990 其他电子设备制造 |
| 发布日期 | 2022年12月29日 |
| 实施日期 | 2022年12月29日 |
| 起草人 | 陈晓梅、霍树春、卢永红、胡春光、杨艺、曲扬、杨芳、施玉书、马晓雪、谷焱绯 |
| 起草单位 | 中国科学院微电子研究所、中关村光电产业协会、天津大学、北京绿色制造产业联盟、凌云光技术股份有限公司、北京大学、中国计量科学研究院、北京总部企业协会 |
| 范围 | |
| 主要技术内容 | 本标准规定了MEMS高深宽比结构深度光谱反射测量的测量原理、测量设备、测量要求、测量方法、测量结果的不确定度评定、合成相对不确定度评定、扩展相对不确定度评定以及测试报告等内容。
本标准适用于多种半导体材料上MEMS高深宽比刻蚀结构的深度测量。刻蚀结构包括但不限于单体和阵列的沟槽、柱和孔等。
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| 是否包含专利信息 | 否 |
| 标准文本 | 查看 |
| 团体详细信息 |
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| 团体名称 | 中关村光电产业协会 |
| 登记证号 | 51110000500316247B | 发证机关 | 北京市民政局 |
| 业务范围 | 开展数字内容产业的政策宣传、专题调研、专业培训、国内外合作交流、新技术新产品推广、展览展示、咨询服务、编辑专业刊物。 |
| 法定代表人/负责人 | 徐斌 |
| 依托单位名称 | |
| 通讯地址 | 北京市朝阳区北土城西路16号友诚大厦217室 | 邮编 : 100029 |
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