T/IAWBS 020—2024 碳化硅外延层深能级缺陷的测试 瞬态电容法-团体标准

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标准详细信息
标准状态  现行
标准编号  T/IAWBS 020—2024
中文标题  碳化硅外延层深能级缺陷的测试 瞬态电容法
英文标题  Test method for deep level defects of silicon carbide epitaxial layers-Transient capacitance method
国际标准分类号  29.045
中国标准分类号  H80/84
国民经济分类  C398 电子元件及电子专用材料制造
发布日期  2024年02月27日
实施日期  2024年03月05日
起草人  闫果果、刘兴昉、郑红军、刘振洲
起草单位  中国科学院半导体研究所、中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟、北京粤海金半导体技术有限公司
范围  
主要技术内容  本文件规定了用瞬态电容技术中的深能级瞬态谱法测量碳化硅(SiC)外延材料中深能级缺陷的方法。
本文件适用于测量碳化硅外延材料层中的杂质、缺陷在半导体禁带中产生的深能级。此方法可得到深能级的激活能、浓度、俘获截面等参数。
是否包含专利信息  
标准文本  不公开
团体详细信息
团体名称中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟
登记证号51110000MJ0117961F发证机关北京市民政局
业务范围产业技术研发、科技成果转化、信息平台与专业数据库建设、自主品牌推广、专业咨询培训与会展、承接政府委托、国际交流与合作、团体标准制定。
法定代表人/负责人刘祎晨
依托单位名称
通讯地址北京市大兴区黄村镇丰远街1号院510办公室邮编 : 102699
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