T_CEMIA 042—2024 半导体硅片清洗用石英槽-团体标准

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标准详细信息
标准状态  现行
标准编号  T/CEMIA 042—2024
中文标题  半导体硅片清洗用石英槽
英文标题  Quartz tank for semi-conductor silicon wafer cleaning
国际标准分类号  81.040.30 玻璃产品
中国标准分类号  Q35
国民经济分类  C305 玻璃制品制造
发布日期  2024年11月05日
实施日期  2025年01月15日
起草人  杨军、吴然红、张荣、张鑫江、郑明山、王慧、钱卫刚、秦卫光、叶国闽、宋贤、高君、李来斌、周文华、蓝呈、张娟、张忠恕、盛文彬、沈根法、孔凡昌、汤芳、卫令中
起草单位  浙江富乐德石英科技有限公司、中国建筑材料科学研究总院有限公司、中国国检测试控股集团股份有限公司、江苏太平洋石英股份有限公司、久智光电子材料科技有限公司、浙江富同石英新材料有限公司、上海强华实业股份有限公司、辽宁汉京半导体材料有限公司、北京凯德石英股份有限公司、浙江奥博石英科技股份有限公司、东海县奥博石英制品有限公司、浙江浩锐石英科技有限公司、湖州东科电子石英股份有限公司
范围  本文件规定了半导体硅片清洗用石英槽的术语和定义、分类和标记、材料、要求、试验方法、检验规则以及标识、清洗、包装、运输和贮存。 本文件适用于半导体硅片清洗用石英槽,以下简称石英槽。
主要技术内容  材料杂质元素含量、外观质量、 尺寸偏差与形位偏差、应力、
支撑棒平整度、石英喷射管出水性能、石英槽密封性能、石英槽溢流面高度
是否包含专利信息  
标准文本  不公开
团体详细信息
团体名称中国电子材料行业协会
登记证号51100000500003195B发证机关中华人民共和国民政部
业务范围行业管理,信息交流,业务培训,国际合作,咨询服务
法定代表人/负责人潘林
依托单位名称
通讯地址北京市朝阳区胜古中路2号院5号楼金基业大厦711/716室邮编 : 100029

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