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| 标准详细信息 |
|---|
| 标准状态 | 现行 |
| 标准编号 | T/EDASQUARE 010—2023 |
| 中文标题 | 光学临近校正（OPC）模型仿真软件建模输入数据结构 |
| 英文标题 | Data structure for Optical Proximity Correction (OPC) software modeling simulation |
| 国际标准分类号 | 31.200 |
| 中国标准分类号 | |
| 国民经济分类 | I6520 集成电路设计 |
| 发布日期 | 2023年09月10日 |
| 实施日期 | 2023年09月10日 |
| 起草人 | 广东工业大学、全芯智造技术有限公司、东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司、墨研计算科学（南京）有限公司、中国科学院微电子所研究院、深圳市海思半导体有限公司、中国电子技术标准化研究院、上海概伦电子股份有限公司。 |
| 起草单位 | 沈逸江、孟晓东、施伟杰、沈忱、崔绍春、钟政、马旭、陈岚、陈容、李思坤、董哲、张薇、王虎、林薇、刘云举、刘娅琳、王亚丽、孙拓华、刘舒宁、刘杰、刘晓明。 |
| 范围 | |
| 主要技术内容 | 规定了晶圆图形量测数据的基本格式、光刻工艺参数表的基本格式、所涉及底层薄膜结构参数的基本格式和所涉及光刻掩膜的三维结构参数基本格式等，对OPC建模仿真软件的输入数据结构进行了标准化规范。 |
| 是否包含专利信息 | 否 |
| 标准文本 | 不公开 |
| 团体详细信息 |
|---|
| 团体名称 | 上海电子设计自动化发展促进会 |
| 登记证号 | 51310000MJ4905543H | 发证机关 | 上海市民政局 |
| 业务范围 | 开展电子设计自动化及相关领域的调查研究，技术创新，编辑出版，标准制定，测试评价，培训与交流，展览展示，承接相关委托事项。（涉及行政许可的，凭许可证开展业务） |
| 法定代表人/负责人 | 郑云升 |
| 依托单位名称 | |
| 通讯地址 | 上海市浦东新区龙东大道3000号1幢裙房217-08室 | 邮编 : 201203 |
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