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| 标准详细信息 |
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| 标准状态 | 现行 |
| 标准编号 | T/EDASQUARE 010—2024 |
| 中文标题 | 光源-掩模联合优化数据输入格式规范 |
| 英文标题 | Data structure for Source Mask Co-optimization |
| 国际标准分类号 | 31.200 |
| 中国标准分类号 | |
| 国民经济分类 | I651 软件开发 |
| 发布日期 | 2024年09月21日 |
| 实施日期 | 2024年09月22日 |
| 起草人 | 沈逸江、孟晓东、施伟杰、沈忱、崔绍春、陈岚、陈容、董哲、张薇、林薇、 刘云举、刘娅琳、王亚丽。 |
| 起草单位 | 广东工业大学、全芯智造技术有限公司、东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司、 墨研计算科学（南京）有限公司、中国科学院微电子所研究院、深圳市海思半导体有限公司。 |
| 范围 | |
| 主要技术内容 | 本文件规范了光源-掩模联合优化数据输入格式的数据结构。
本文件适用于晶圆制造领域，包括晶圆制造厂（涵盖存储和逻辑芯片制造）本身和对应的计算光刻软件支持单位。本标准应用于自28nm技术节点开始，以及后续更先进工艺的所有节点中的相关工艺层次。 |
| 是否包含专利信息 | 否 |
| 标准文本 | 不公开 |
| 团体详细信息 |
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| 团体名称 | 上海电子设计自动化发展促进会 |
| 登记证号 | 51310000MJ4905543H | 发证机关 | 上海市民政局 |
| 业务范围 | 开展电子设计自动化及相关领域的调查研究，技术创新，编辑出版，标准制定，测试评价，培训与交流，展览展示，承接相关委托事项。（涉及行政许可的，凭许可证开展业务） |
| 法定代表人/负责人 | 郑云升 |
| 依托单位名称 | |
| 通讯地址 | 上海市浦东新区龙东大道3000号1幢裙房217-08室 | 邮编 : 201203 |
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