T_COS 029—2025 电子封装用高硅铝合金化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法-团体标准
目录
| 标准详细信息 | |
|---|---|
| 标准状态 | 现行 |
| 标准编号 | T/COS 029—2025 |
| 中文标题 | 电子封装用高硅铝合金化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法 |
| 英文标题 | Methods for chemical analysis of high silicon aluminum alloy for electronic packaging Determination of trace impurity elements contents—Dlow discharge mass spectrometry |
| 国际标准分类号 | 17.180.01 光学和光学测量综合 |
| 中国标准分类号 | 中国兵器工业集团第五二研究所，中国兵器工业集团第五三研究所，中国电子科技集团公司第二十九研究所。 |
| 国民经济分类 | C419 其他未列明制造业 |
| 发布日期 | 2025年10月01日 |
| 实施日期 | 2025年10月01日 |
| 起草人 | 翟宇鑫、连危洁、杜喜望、韩震、崔崇亮、崔意娟、李爽、田兆永、李颖、陈伟、马兰、韩振生、李惠雨、张毅飞、赵敏 |
| 起草单位 | 中国兵器工业集团第五二研究所，中国兵器工业集团第五三研究所，中国电子科技集团公司第二十九研究所 |
| 范围 | 本文件规定了电子封装用高硅铝合金（硅添加量≥40%）中痕量杂质元素含量的测定方法。 本文件适用于电子封装用高硅铝合金（硅添加量≥40%）中痕量杂质元素含量的测定。测定范围覆盖除气体元素外的其他杂质元素，质量分数为0.1 ㎎/㎏-500 ㎎/㎏，且经标准样品校正后，可对样品进行准确的定量分析。 |
| 主要技术内容 | 1 范围 2 规范性引用文件 3 术语和定义 3.1 背景空白样品 3.2 质量校正标准样品 3.3 仪器检测器校正标准样品 3.4 ICE 3.5 半定量分析法 4 原理 5 试剂和材料 5.1 无水乙醇（ρ约0.789 g/mL），优级纯。 5.2 盐酸（ρ约1.19 g/mL），优级纯。 5.3 硝酸（ρ约1.42 g/mL），优级纯。 5.4 氢氟酸（ρ约1.19 g/mL），优级纯。 5.5 王水（1+3） 5.6 盐酸（1+1） 5.7 氩气 5.8 高硅铝合金标准物质 6 仪器设备 6.1 辉光放电质谱仪（GDMS） 6.2 制样加工设备 7 样品 7.1 试样具有均匀性和代表性 7.2 常规棒状或片状金属样品 8 试验步骤 8.1 仪器准备工作 8.2 测定 8.3 相对灵敏度因子的测定 8.4 样品测量 9 试验数据处理 10 精密度 11 检测报告 |
| 是否包含专利信息 | 否 |
| 标准文本 | 查看 |
| 团体详细信息 | |||
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| 团体名称 | 中国兵工学会 | ||
| 登记证号 | 51100000500001499A | 发证机关 | 中华人民共和共民政部 |
| 业务范围 | 学术交流、科学普及、咨询服务、业务培训、技术服务 | ||
| 法定代表人/负责人 | 赵刚 | ||
| 依托单位名称 | |||
| 通讯地址 | 北京市海淀区车道沟10号院 | 邮编 : 100089 | |