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| 标准详细信息 |
|---|
| 标准状态 | 现行 |
| 标准编号 | T/EDASQUARE 026—2025 |
| 中文标题 | 半导体加工三维形貌模拟工艺输入接口 |
| 英文标题 | Process Input Interface of 3D Topography Simulation for Semiconductor Fabrication |
| 国际标准分类号 | 31.200 |
| 中国标准分类号 | |
| 国民经济分类 | I6520 集成电路设计 |
| 发布日期 | 2025年09月12日 |
| 实施日期 | 2025年09月12日 |
| 起草人 | 高大为、周洁云、符雅丽、户利国、周国栋、陈岚、马晓雷、陈大瑾、杨兰兰、王方、戴以壮、沈逸江。 |
| 起草单位 | 浙江创芯集成电路有限公司、苏州培风图南半导体有限公司、上海概伦电子股份有限公司、南京集成电路设计自动化技术创新中心、中国科学院微电子研究所、广东工业大学。 |
| 范围 | |
| 主要技术内容 | 本文件提供了半导体加工三维形貌模拟的工艺输入接口规范，包括晶圆设置、光刻、刻蚀、材料生长、化学机械抛光、缺陷定义和材料替换，规定了工艺的参数要求、工艺配置的结构化表达规则、接口的扩展兼容机制。
本文件适用于三维形貌模拟工具的开发和应用。 |
| 是否包含专利信息 | 否 |
| 标准文本 | 不公开 |
| 团体详细信息 |
|---|
| 团体名称 | 上海电子设计自动化发展促进会 |
| 登记证号 | 51310000MJ4905543H | 发证机关 | 上海市民政局 |
| 业务范围 | 开展电子设计自动化及相关领域的调查研究，技术创新，编辑出版，标准制定，测试评价，培训与交流，展览展示，承接相关委托事项。（涉及行政许可的，凭许可证开展业务） |
| 法定代表人/负责人 | 郑云升 |
| 依托单位名称 | |
| 通讯地址 | 上海市浦东新区龙东大道3000号1幢裙房217-08室 | 邮编 : 201203 |
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